Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)Laverde Catano, DionisioChaparro Rojas, Sara MarcelaRozo Saavedra, Diana Patricia2024-03-0320062024-03-0320062006https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/18270La técnica de corriente pulsante inversa es una nueva tecnología de electrodeposición que permite mejorar algunas propiedades del recubrimiento metálico tales como homogeneidad, dureza, porosidad y brillo, ésto comparado con la técnica de corriente directa, que ha sido utilizada durante mucho tiempo y ha sido la solución para recubrir y proteger diferentes tipos de piezas metálicas. La empresa Fantaxias Ltda., ha utilizado esta técnica desde sus comienzos y le ha ocasionado diversos problemas en la calidad de las piezas originándole sobrecostos y rechazo de piezas fuera de especificaciones en el proceso de control de calidad. Durante este proyecto se desarrolló una etapa investigativa a nivel de laboratorio donde se obtuvieron electro recubrimientos de cobre, latón y níquel utilizando un montaje a pequeña escala tomado del proceso de electrodeposición de la empresa. La etapa investigativa se llevó a cabo en tres fases. Inicialmente se realizaron pruebas preliminares y pruebas de diseño experimental, en donde se llevó un seguimiento de las propiedades de los baños electrolíticos como temperatura, densidad y pH, posteriormente se realizaron mediciones y análisis de las propiedades de los recubrimientos (espesor, dureza, rugosidad, tamaño de grano) y finalmente se efectuó un estudio del abrillantante en el baño de níquel, con el objetivo de minimizar su consumo. Como resultado del proceso de investigación se llegaron a unas condiciones apropiadas de electrodeposición de los diferentes recubrimientos de cobre, latón y níquel.application/pdfspahttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/Baño electrolíticoElectro recubrimientoCorriente pulsante inversaCobreLatónníquelespesoraditivos.Universidad Industrial de SantanderTesis/Trabajo de grado - Monografía - PregradoUniversidad Industrial de Santanderhttps://noesis.uis.edu.coElectrolytic bathElectroplatingReverse pulse currentCopperBrassnickelthicknessinfo:eu-repo/semantics/openAccessAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)