Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)Dugar-Zhabon, Valeriy DondokovichCabanzo Hernández, RafaelParada Becerra, Fredy Fabian2024-03-0320132024-03-0320132013https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/29526El reactor MOSMET (Modificador de Superficies Metálicas) es el resultado del desarrolló de una nueva tecnología en el tratamiento de superficies sólidas, especialmente aceros, los cuáles son sometidos a descargas combinadas de arco eléctrico y de alto voltaje a bajas presiones. Esta nueva tecnología está basada en el sistema de alto voltaje del equipo JUPITER (Joint Universal Plasma and ión Technologies Experimental Reactor) y un nuevo sistema de evaporización de metales mediante la generación de una descarga de arco eléctrico. Se describe el sistema experimental para la producción artificial de estructuras nanolaminadas a través del evaporador de arco eléctrico mediante la circulación de manchas catódicas sobre la superficie del cátodo que son controladas magnéticamente. Se discuten las principales características del arco eléctrico en vacío como una fuente de vapor metálico de composición modulada en el tiempo y se presentan algunas carácterísticas de los recubrimientos de múltiples capas obtenidos para el caso de estructuras de Ti/TiB. Por primera vez se hace una observación del espectro óptico emitido por una descarga híbrida (arco eléctrico y alto voltaje a bajas presiones) en el reactor MOSMET en una atmosfera controlada de titanio, el estudio realizado muestra que para medidas realizadas al interior de la cámara de descargas se obtiene una temperatura del orden de T = 7127 + / — 200k. Por otra parte, el estudio realizado a través de la ventana de zafiro (medida al exterior de la cámara) muestra que la temperatura generada es del orden de T = 7574 + / — 200k.application/pdfspahttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/Implantación IónicaPlasmaRecubrimientosRadiaciónMulticapas.Universidad Industrial de SantanderTesis/Trabajo de grado - Monografía - MaestriaUniversidad Industrial de Santanderhttps://noesis.uis.edu.coiónic ImplantationPlasmaCoatingsRadiationinfo:eu-repo/semantics/openAccessAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)