Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)Laverde Catano, DionisioVasquez Quintero, CustodioVillafrades Torres, Raquel2024-03-0320072024-03-0320072007https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/20369Los depósitos de níquel obtenidos mediante corriente directa presentan características no deseadas como: falta de brillo, porosidad, sobreespesores y excesivo uso de aditivos entre otros. Las técnicas con corriente pulsante, PIC y PRC, permiten mejorar las propiedades de los depósitos con base en una selección adecuada de los parámetros involucrados en el proceso. El objetivo general de este trabajo de investigación fue establecer, para cada una de las técnicas pulsantes, el efecto de las variables eléctricas y de algunas condiciones del electrolito sobre el espesor, la porosidad, el brillo y la eficiencia de la corriente de los recubrimientos de níquel. Se caracterizó electroquímicamente el proceso de electrodeposición mediante el electrodo de disco rotatorio (RDE) y se determinó que el incremento en la temperatura y la velocidad de rotación favorecen la reacción de evolución de hidrógeno (REH), mientras que la presencia de aditivos inhibe la REH de manera acentuada debido a su adsorción sobre los sitios activos del cátodo. La comparación de las técnicas DC, PIC y PRC indicó que para PIC bajo las siguientes condiciones: voltaje catódico de 5 V, voltaje de relajación de 2 V, tiempo catódico y de relajación de 300application/pdfspahttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ElectrodeposiciónNíquelCorriente directaCorriente pulsanteElectrodo de discoEfecto de la corriente en las características de los depósitos de níquel usado para la fabricación de herrajesUniversidad Industrial de SantanderTesis/Trabajo de grado - Monografía - MaestriaUniversidad Industrial de Santanderhttps://noesis.uis.edu.coElectrodepositionNickelDirect currentPulse currentRotating diskEffect of the pulse current in the characteristic of nickel™s deposits used for the making of metalworkinfo:eu-repo/semantics/openAccessAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)