Estudio del comportamiento de la corriente hall en un magnetrón sputtering con cátodo equipotencial y no equipotencial
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Date
2020
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Publisher
Universidad Industrial de Santander
Abstract
Uno de los mecanismos más populares utilizados en la deposición de películas delgadas para el tratamiento de superficies es la pulverización catódica con magnetrón, donde la descarga se da en campos magnéticos y eléctricos cruzados. Los procesos físicos asociados con la generación y el mantenimiento de la descarga en este sistema son complejos y aún no se han explicado desde un punto de vista teórico. La corriente Hall juega un papel importante en la formación de la estructura de la descarga de magnetrón. Para estudiar el efecto de la corriente, en este trabajo, se propone un diseño de anillo de magnetrón, que permitirá medir la corriente experimentalmente para confirmar la simulación numérica de los procesos, este esquema permite medir la corriente Hall mediante transformadores de corriente externos. Se propone el estudio computacional de la descarga en un magnetrón sputtering con cátodo no equipotencial a partir de la simulación numérica de la dinámica electrónica en la aproximación de partículas simple, bajo la influencia del campo magnético y el campo electrostático. Estos campos se obtendrán utilizando el software COMSOL Multiphysics®. La dinámica de las partículas se obtendrá a través de la solución numérica de la ecuación de Newton-Lorentz. Los métodos desarrollados en este documento se pueden usar para analizar sistemas avanzados modernos como magnetrones con cátodos no equipotenciales.
Description
Keywords
Plasma, Corriente Hall, Magnetrón Sputtering.