Desarrollo de películas de tio2-cao-p2o5-sio2 mediante oxidación electrolítica por plasma (peo), sobre el sustrato ti6al4v eli previamente nitrurada por deposición física de vapor pvd

Abstract

Estudios previamente realizados indican que el sustrato Ti6Al4V ELI clasifica como una de las aleaciones más atractivas para las actuales aplicaciones biomédica principalmente por su carácter biocompatible, sin embargo presenta pobres propiedades tribológicas como consecuencia de su reducida resistencia al desgaste, baja dureza e inestabilidad del coeficiente de fricción. En este estudio se desarrollaron películas de TiO2-CaO-P2O5-SiO2 implementando como técnica de deposición el Anodizado por Plasma Químico APQ u Oxidación Electrolítica Por Plasma PEO; los recubrimientos se depositaron en superficies de Ti6Al4V ELI sin y con previa modificación superficial (nitruración por PVD a 520°C). Las variables en estudio consideradas son: la condición superficial de los sustratos, la concentración molar de silicio en el electrolito usado para obtener los recubrimientos por APQ ([Si]=0.05M y 0.1M) y el tratamiento térmico aplicado a los mismos (T°=450°C y 650°C). Se caracterizó morfológicamente la superficie por Microscopía Electrónica de Barrido MEB. Los enlaces generados, cristalinidad y composición de los recubrimientos se determinaron bajo el uso de las técnicas FTIR, DRX y EED. Las modificaciones aplicadas al material en cuanto a propiedades mecánicas como dureza y resistencia al desgaste se definieron por las técnicas de Microdureza y Pin on Disk, respectivamente. Y finalmente mediante EIS se evaluó las propiedades electroquímicas del material en cuestión.