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Estudio experimental de la resistencia a la corrosión de sustratos de silicio modificados superficialmente con iones de titanio y nitruro de titanio

dc.contributor.advisorPeña Ballesteros, Darío Yesid
dc.contributor.advisorValbuena Niño, Ely Dannier
dc.contributor.authorCoronado Quijano, Jorge Armando
dc.contributor.authorGonzález Acevedo, Jesús Eduardo
dc.date.accessioned2024-03-03T20:41:55Z
dc.date.available2014
dc.date.available2024-03-03T20:41:55Z
dc.date.created2014
dc.date.issued2014
dc.description.abstractLa razón de la creciente demanda que tiene el silicio hasta nuestros días, no solo es debida a sus propiedades electrónicas, sino también a sus excelentes propiedades mecánicas, térmicas y magnéticas. Se han realizado estudios de este material en aplicaciones tecnológicas, principalmente en la industria microelectrónica como material básico para la producción de chips que se pueden implantar en transistores y pilas solares. Por lo tanto, es de vital importancia investigar acerca del mecanismo de degradación, para así alargar la vida útil de la tecnología fabricada con este material. Es por ello que el Grupo de Investigación en Física y Tecnología del Plasma (FITEK) junto con el Grupo de Investigación en Corrosión (GIC) de la Universidad Industrial de Santander (UIS), se encuentran desarrollando una nueva tecnología de modificación superficial de sólidos mediante descargas pulsadas de alto voltaje y de arco eléctrico a bajas presiones, realizada en el reactor MOSMET (Modificación Superficial de Metales). La presente investigación busca mediante ensayos electroquímicos: Rp (Resistencia la Polarización), EIS (Espectroscopía de Impedancia Electroquímica) y Tafel. Técnicas de caracterización: Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) y Difracción de Rayos X (DRX), evaluar el desempeño de las superficies de sustratos de silicio no modificadas y modificadas con iones de especies metálicas (titanio) y no metálicas (nitrógeno). Los resultados obtenidos, indican que las muestras de silicio implantadas a 10 minutos con titanio en la posición 12 (P12Ti10m), luego de estar en inmersión, presentan una menor velocidad de corrosión en comparación con las demás muestras implantadas. De acuerdo al análisis estadístico no es un resultado relevante, debido a que no se hicieron repeticiones. En el análisis SEM y EDS se evidenció la presencia de especies iónicas de Ti y TiN, defectos superficiales e impurezas de otros elementos químicos que influyeron en la superficie de las muestras.
dc.description.abstractenglishThe reason for the growing demand for silicon has until today, is not only due to their electronic properties but also excellent mechanical, thermal and magnetic properties. It has a special interest in the microelectronics industry as basic material for the creation of chips that can be implanted in transistors, solar cells. For this reason it is vital research the mechanism of degradation, thereby extend the useful life of the technology made with this material. This is why the Research Group in Physics and Plasma Technology (FITEK) together with the Research Group on Corrosion (GIC) from the Industrial University of Santander (UIS), are developing a new technology for surface modification of solids by pulsed high voltage and low pressure electric arc downloads, made in the reactor MOSMET (Surface Modification of Metals). This research look by electrochemical tests: Polarization Resistance (Rp), Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) and Tafel. Scanning Electron Microscopy (SEM) and X-Ray Diffraction (DRX), evaluate the performance of the surfaces for silicon substrates unmodified and modified with metal ion species (Titanium) and not metallic (nitrogen). The results indicate that the silicon samples implanted with titanium within 10 minutes at position 12 (P12Ti10m), after being submerged have a lower corrosion rate compared to other implanted samples. According to the statistical analysis is not an important result, because no repetitions are made. By SEM and EDS analysis, the presence of Ti and TiN ionic species, surface defects and impurities of other chemical elements that influenced the surface of the samples was demonstrated.
dc.description.degreelevelPregrado
dc.description.degreenameIngeniero Metalúrgico
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.instnameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.reponameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.repourlhttps://noesis.uis.edu.co
dc.identifier.urihttps://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/30482
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad Industrial de Santander
dc.publisher.facultyFacultad de Ingenierías Fisicoquímicas
dc.publisher.programIngeniería Metalúrgica
dc.publisher.schoolEscuela de Ingeniería Metalúrgica y Ciencia de Materiales
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.rights.accessrightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.creativecommonsAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)
dc.rights.licenseAttribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0
dc.subjectSustratos De Silicio
dc.subjectModificación Superficial
dc.subjectProductos De Corrosión
dc.subjectTécnicas Electroquímicas
dc.subjectDifracción De Rayos X
dc.subjectMicroscopía Electrónica De Barrido.
dc.subject.keywordSilicon Substrates
dc.subject.keywordSurface Modifier
dc.subject.keywordCorrosion Products
dc.subject.keywordElectrochemical Techniques
dc.subject.keywordX Ray Diffraction
dc.subject.keywordScanning Electron Microscopy.
dc.titleEstudio experimental de la resistencia a la corrosión de sustratos de silicio modificados superficialmente con iones de titanio y nitruro de titanio
dc.title.englishExperimental study of the corrosion resistance of silicon substrates surface modified by titanium and titanium nitride ions.
dc.type.coarhttp://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
dc.type.hasversionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1f
dc.type.localTesis/Trabajo de grado - Monografía - Pregrado
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