Estudio del comportamiento de la corriente hall en un magnetrón sputtering con cátodo equipotencial y no equipotencial
dc.contributor.advisor | Tsygankov, Petr Anatolievich | |
dc.contributor.advisor | Lopez Duran, Jesus Eduardo | |
dc.contributor.author | Cárdenas Ayala, Paula Andrea | |
dc.date.accessioned | 2024-03-04T00:40:01Z | |
dc.date.available | 2020 | |
dc.date.available | 2024-03-04T00:40:01Z | |
dc.date.created | 2020 | |
dc.date.issued | 2020 | |
dc.description.abstract | Uno de los mecanismos más populares utilizados en la deposición de películas delgadas para el tratamiento de superficies es la pulverización catódica con magnetrón, donde la descarga se da en campos magnéticos y eléctricos cruzados. Los procesos físicos asociados con la generación y el mantenimiento de la descarga en este sistema son complejos y aún no se han explicado desde un punto de vista teórico. La corriente Hall juega un papel importante en la formación de la estructura de la descarga de magnetrón. Para estudiar el efecto de la corriente, en este trabajo, se propone un diseño de anillo de magnetrón, que permitirá medir la corriente experimentalmente para confirmar la simulación numérica de los procesos, este esquema permite medir la corriente Hall mediante transformadores de corriente externos. Se propone el estudio computacional de la descarga en un magnetrón sputtering con cátodo no equipotencial a partir de la simulación numérica de la dinámica electrónica en la aproximación de partículas simple, bajo la influencia del campo magnético y el campo electrostático. Estos campos se obtendrán utilizando el software COMSOL Multiphysics®. La dinámica de las partículas se obtendrá a través de la solución numérica de la ecuación de Newton-Lorentz. Los métodos desarrollados en este documento se pueden usar para analizar sistemas avanzados modernos como magnetrones con cátodos no equipotenciales. | |
dc.description.abstractenglish | One of the most popular mechanisms used in the deposition of thin films for surface treatment is magnetron sputtering where the discharge occurs in crossed electric and magnetic fields. The physical processes associated with the generating and maintaining discharge in this system are complex and have not yet been explained from a theoretical point of view. The Hall current plays an important role in the formation of the magnetron discharge structure. In order to study the effects of current, in this work, a magnetron ring design is proposed, this will allow the current to be measured experimentally to confirm the numerical simulation of the processes. This scheme allows the Hall current to be measured using external current transformers. The computational study of the discharge in a sputtering magnetron with a non-equipotential cathode is proposed from the numerical simulation of electronic dynamics in the simple particle approximation, under the influence of the magnetic field and the electrostatic field. These fields will be obtained using the COMSOL Multiphysics® software. The dynamics of the particles will be obtained through the numerical solution of the Newton-Lorentz equation. The methods developed in this document can be used to analyze modern advanced systems such as magnetrons with non-equipotential cathodes. | |
dc.description.degreelevel | Pregrado | |
dc.description.degreename | Físico | |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.identifier.instname | Universidad Industrial de Santander | |
dc.identifier.reponame | Universidad Industrial de Santander | |
dc.identifier.repourl | https://noesis.uis.edu.co | |
dc.identifier.uri | https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/39732 | |
dc.language.iso | spa | |
dc.publisher | Universidad Industrial de Santander | |
dc.publisher.faculty | Facultad de Ciencias | |
dc.publisher.program | Física | |
dc.publisher.school | Escuela de Física | |
dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ | |
dc.rights.accessrights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.rights.creativecommons | Atribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0) | |
dc.rights.license | Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0) | |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0 | |
dc.subject | Plasma | |
dc.subject | Corriente Hall | |
dc.subject | Magnetrón Sputtering. | |
dc.subject.keyword | Plasma Physics | |
dc.subject.keyword | Hall current | |
dc.subject.keyword | Magnetron Sputtering | |
dc.title | Estudio del comportamiento de la corriente hall en un magnetrón sputtering con cátodo equipotencial y no equipotencial | |
dc.title.english | Study of the behavior of the hall current in a sputtering magnetron with equipotential and non-equipotential cathode | |
dc.type.coar | http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce | |
dc.type.hasversion | http://purl.org/coar/resource_type/c_7a1f | |
dc.type.local | Tesis/Trabajo de grado - Monografía - Pregrado |
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