Evaluación de películas semiconductoras de n-tio2 preparadas por el método sol-gel usando etóxido e isopropoxido de titanio (iv) en la oxidación de fenol por foto electrocatálisis

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dc.contributor.advisorNiño Gómez, Martha Eugenia
dc.contributor.advisorRopero Vega, José Luis
dc.contributor.authorRey Gómez, Diana Marcela
dc.contributor.authorValenzuela Toledo, Eduard Ferney
dc.date.accessioned2024-03-03T20:10:31Z
dc.date.available2013
dc.date.available2024-03-03T20:10:31Z
dc.date.created2013
dc.date.issued2013
dc.description.abstractEl presente trabajo tuvo como objetivo principal la evaluación de películas delgadas semiconductoras de TiO2 dopado con nitrógeno durante la foto electrocatálisis de soluciones acuosas de fenol, empleando como precursores de titanio el etóxido y el isopropóxido de titanio (IV), y como precursor de nitrógeno, la etilendiamina (en). El efecto de la relación molar alcóxido de titanio: en (1:1, 2:1, 1/3:1), la relaciones molares alcóxido de titanio: alcohol (1:10, 1:15, 1:20) y la relación molar alcóxido de titanio: agua (1:0.5, 1:1, 1:2, 1:5, 1:10) en la obtención de los soles estables fueron estudiadas. Los cuáles se caracterizaron por IR-TF y DLS. Las películas se obtuvieron empleando la técnica dip-coating, utilizando como sustrato acero AISI-SAE-304 y se caracterizaron mediante SEM, DRX y espectroscopia de reflactancia difusa de ultravioleta-visible. Las propiedades eléctricas de las películas delgadas se caracterizaron por potencial a circuito abierto y voltametría de barrido lineal. La degradación de soluciones acuosas de 50 ppm de fenol se realizó empleando como fotoánodo las películas sintetizadas y como cátodo acero AISI SAE 304, como electrolito NaCl 0.1M, la solución fue irradiada con luz visible empleando una lámpara de halogenuro metálico de 150W Philips. Durante este proceso se evaluaron variables como: número de capas del semiconductor y el pH de la solución. El seguimiento de la degradación de fenol se realizó por espectroscopia ultravioleta-visible. Las películas de N-TiO2 mostraron actividad fotoelectrocatalítica alcanzando alrededor del 50% de degradación del fenol.
dc.description.abstractenglishThis work had as main objective the evaluation of semiconductor thin films of nitrogen-doped TiO2 during the photoelectrocatalysis of phenol aqueous solutions, using as precursors titanium ethoxide and titanium (IV) isopropoxide, and as a precursor of nitrogen, the ethylenediamine (en). The effect of the molar ratio titanium alkoxide:en (1:1, 2:1, 1/3: 1), the molar ratio titanium alkoxide: alcohol (1:10, 1:15, 1:20) and molar ratio titanium alkoxide: water (1:0.5, 1:1, 1:2, 1:5, 1:10) to obtain stable sols were studied. Which were characterized by FT-IR and DLS. Films were obtained using the dip-coating technique, using as substrate steel AISI-SAE-324 and characterized by SEM and XRD diffuse reflectance spectroscopy ultraviolet-visible. The electrical properties of thin films were characterized by open circuit potential and linear sweep voltammetry. The degradation of aqueous solutions of 50 ppm of phenol was carried out employing as photoanode the synthesized films and the cathode the SAE/AISI/304, also solution of 0.1M NaCl as the electrolyte, the solution was irradiated with visible light using a metal halide lamp of 150W Philips. During this process were evaluated variables as semiconductor layers and the pH of the solution. The monitoring of the degradation of phenol was performed by ultraviolet-visible spectroscopy. Phenol oxidation in aqueous solution with a percentage of degradation of about 50%.
dc.description.degreelevelPregrado
dc.description.degreenameQuímico
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.instnameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.reponameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.repourlhttps://noesis.uis.edu.co
dc.identifier.urihttps://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/29409
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad Industrial de Santander
dc.publisher.facultyFacultad de Ciencias
dc.publisher.programQuímica
dc.publisher.schoolEscuela de Química
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.rights.accessrightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.creativecommonsAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)
dc.rights.licenseAttribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0
dc.subjectFoto electrocatálisis
dc.subjectPrecursor De Titanio
dc.subjectPrecursor Dopante
dc.subjectOxidación Del Fenol.
dc.subject.keywordPhotoelectrocatalysis
dc.subject.keywordTitanium Precursor
dc.subject.keywordDopant Precursor
dc.subject.keywordOxidation Of Phenol.
dc.titleEvaluación de películas semiconductoras de n-tio2 preparadas por el método sol-gel usando etóxido e isopropoxido de titanio (iv) en la oxidación de fenol por foto electrocatálisis
dc.title.englishEvaluation of semiconductor films of n-tio2, prepared by sol-gel method using ethoxide and titanium isopropoxide (iv) in the oxidation of phenol by photoelectrocatalysis
dc.type.coarhttp://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
dc.type.hasversionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1f
dc.type.localTesis/Trabajo de grado - Monografía - Pregrado
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