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Diseño de una celda de memoria sram integrada en tecnología cmos

dc.contributor.advisorRoa Fuentes, Elkim Felipe
dc.contributor.authorEspíndola Calderón, Diego Felipe
dc.date.accessioned2024-03-03T18:05:05Z
dc.date.available2010
dc.date.available2024-03-03T18:05:05Z
dc.date.created2010
dc.date.issued2010
dc.description.abstractEl escalamiento de la tecnología CMOS en circuitos integrados ha permitido incrementar el número de transistores por unidad de área, específicamente en el campo de memorias, esto significa un incremento en la capacidad de almacenamiento. Sin embargo, debido al escalamiento el proceso de fabricación es más exigente, incrementando la pérdida de datos. Por otra parte, el continuo uso de aplicaciones portátiles ha hecho de la autonomía de los dispositivos, un aspecto importante en el diseño circuitos integrados. Una solución para reducir el consumo es reducir el valor de la tensión de alimentación y operar los circuitos en región de subumbral. No obstante, las condiciones de operación son más exigentes comparadas con las regiones de saturación y triodo. Considerando lo anterior, este trabajo aborda la SRAM y el diseño de una celda de almacenamiento en tecnología UMC 90nm. Primero, son presentadas algunas consideraciones y análisis de la arquitectura de la SRAM y sus componentes. Luego, es revisado el estado del arte de celdas SRAM y basado en este fueron escogidas dos topologías (simple y diferencial), para analizar y evaluar junto con la tradicional celda 6T. La celda 10T diferencial fue escogida para este trabajo de acuerdo con consideraciones de rendimiento y diseño. La estrategia seguida fué: Centralizar las WTC de los inversores CMOS en antiparalelo desde las expresiones algebráicas del circuito y luego encontrar la tensión de alimentación óptima de acuerdo con el mínimo consumo de energía. Los resultados de simulación bajo Spectre fueron: Vyp = 215 [mV], SNM = 68,7 [mV], P = 4,27 [nW], f = 500 [KHz], usando el modelo BSIM4v4.3. Adicionalmente, es aplicada PG para optimizar la celda 6T y una discusión es planteada. Finalmente, fué trazado el layout del circuito de acuerdo con las reglas del fabricante y validados los resultados estadísticamente por medio de simulaciones Monte Carlo considerando el mismtach y las variaciones del proceso.
dc.description.abstractenglishThe CMOS technology scaling trend on integrated circuits has allowed the increase of the number of transistors per area unit and specifically in the memories field this means an increase in the storage capacity. However, due the scaling the manufacturing process is more demanding, increasing the noise sensibility and data loss. Moreover, the continuous use of portable applications has made the autonomy of the devices an important aspect in the integrated circuits design. One solution to reduce the power consumption is to reduce the value of the supply voltage and operate the circuits in subthreshold region. Nevertheless, the operation conditions are demanding, compared to linear or saturation regions. Considering the above, this work deals of SRAM and the design of its bitcell in UMC 90nm technology. First, some considerations and analysis of SRAM architecture and its components are presented. Then, the state of art of bitcells is reviewed and based on it, two topologies (single and differential) were chosen, in order to analyze and to evaluate with the traditional 6T bitcell. The differential 1OT SRAM bitcell was chosen for this work taking into account some performance and design considerations. The design strategy followed was: to centralize the VTC of the CMOS inverters in antiparallel from the algebraical expressions of the circuit, and then to find the optimum supply voltage according to the minimum energy consumption. The simulation results under Spectre were: Vop = 215 [mV], SNM = 68,7 [mV], P = 4,27 [nW], f = 500 [KHz], using the BSIM4v4.3 model. Additionally GP was applied to the optimization of a 6T bitcell and a discussion about them is raised. Finally, the circuit layout was drawn according to the manufacturer rules and the results were validated statistically through Monte Carlo simulations considering the mismatch and process variations.
dc.description.degreelevelPregrado
dc.description.degreenameIngeniero Electrónico
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.instnameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.reponameUniversidad Industrial de Santander
dc.identifier.repourlhttps://noesis.uis.edu.co
dc.identifier.urihttps://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/23358
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad Industrial de Santander
dc.publisher.facultyFacultad de Ingenierías Fisicomecánicas
dc.publisher.programIngeniería Electrónica
dc.publisher.schoolEscuela de Ingenierías Eléctrica, Electrónica y Telecomunicaciones
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.rights.accessrightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.creativecommonsAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional (CC BY-NC-ND 4.0)
dc.rights.licenseAttribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0
dc.subjectCelda SRAM
dc.subjectMemoria en subumbral
dc.subjectBajo voltaje
dc.subjectBajo consumo de potencia
dc.subjectProgramación geométrica
dc.subjectSNM (Static Noise Margin).
dc.subject.keywordSRAM bitcell
dc.subject.keywordSubthreshold memory
dc.subject.keywordLow voltage
dc.subject.keywordLow power
dc.subject.keywordGeometric programming
dc.subject.keywordSNM (Static Noise Margin).
dc.titleDiseño de una celda de memoria sram integrada en tecnología cmos
dc.title.englishDesign of a sram bitcell integrated in cmos technology
dc.type.coarhttp://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
dc.type.hasversionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1f
dc.type.localTesis/Trabajo de grado - Monografía - Pregrado
dspace.entity.typePublication

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